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IBM宣布世界上第一个具有功能晶体管的7nm芯片

时间:2021-08-01 18:29:06 来源:

IBM HASN“T真的是Tech Innovation的最前沿,这是一段时间,或者至少是它萎缩的消费电子部门导致我们相信的东西。然而,该公司仍在重大研究和发展,与其他许多其他人一样,正试图推进现代计算。最新突破采用革命性的新芯片,使用7nm工艺制造。

主要的里程碑是纽约奥尔巴尼的全球铸造厂,三星和Suny理工学院的高校合作完成了30亿美元的研发。通过使用硅锗(SiGe)通道晶体管和极端紫外线(EUV)光刻集成来实现缩减缩减。

如果您想知道为什么有人努力掌握具有比人类头发小约14 000倍的处理能力的运作芯片,最终目标很简单,现在已经相当一段时间 - CRAM更多的晶体管在一个较小的空间。这是大多数骰子缩小的最终目标,这就是为什么三星的目前的14个NM FinFET技术被认为是优越和更具未来的证据,而不是让Qualcomm仍在使用Snapdragon Chips的20nm过程。

传统的热挑战,与制造芯片更小和挤压晶体管较近的终于可能是IBM在新材料和集成过程的帮助下寻址的最大问题。然而,还值得注意的是,在这种小规模上工作也呈现出新的科学挑战,略显在传统物理学领域。尽管如此,行业领导者仍然相信,在我们不可避免地击中一些物理边界之前,有充足的额外收缩空间。

三星已经在稳定的10nm finfet技术上工作,英特尔也是如此。但是,7nm是一个更令人印象深刻的成就,IBM国家可以在未来的技术中提高高达50%的绩效改善。然而,牢记这项技术仍然远离消费市场。不久前,三星也表示,“在将半导体技术最小化下降到5nm的技术难度”,因此我们仍然有很多期待。


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